ASML desenvolve litografia High NA EUV para chips de data center

A fabricante holandesa de equipamentos para semicondutores ASML anunciou que vai desenvolver suas ferramentas mais avançadas em parceria com grandes clientes para viabilizar a produção de chips de alto desempenho usados em data centers, como os projetados pela Nvidia e por outras empresas do setor.

A iniciativa foi reportada pela Agência Reuters e envolve a adoção de máscaras de maior tamanho nas máquinas de nova geração da companhia, conhecidas como High NA (alta abertura numérica, em tradução livre) EUV (ultravioleta extremo). A mudança é considerada essencial para ampliar o uso dessas ferramentas na produção em larga escala.

As ferramentas EUV convencionais da ASML já permitem a impressão de chips de até 800 milímetros quadrados, dimensão suficiente para os maiores chips de data center fabricados hoje por empresas como Nvidia e Google. O problema é que as máquinas High NA EUV, embora capazes de gravar recursos ainda mais refinados no silício, operam com máscaras menores, o que limita o tamanho dos chips que conseguem produzir.

Adoção gradual da nova geração

A Intel já utiliza as máquinas High NA EUV da ASML para a fabricação de chips para laptops, mas a Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) e a Samsung Electronics ainda não as empregam em produções de grande volume. A migração para máscaras maiores é a aposta da ASML para mudar esse cenário.

A TSMC anunciou que pretende incorporar a tecnologia High NA EUV à sua produção de alto volume em nós avançados a partir de 2030. Já a Samsung projeta a introdução da mesma tecnologia na produção em massa de chips de memória DRAM até 2028.

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A SK Hynix também se manifestou sobre o tema. Em comunicado, a empresa afirmou que está avaliando sua participação no consórcio para a introdução de máscaras de 12 polegadas e que tem como meta aplicar processos High NA EUV à produção em massa de DRAM em 2028.

Metas de produtividade e prazos

A ASML prevê apresentar uma linha-piloto com as máscaras maiores até 2031. A previsão é que a tecnologia esteja pronta para produção em alto volume em 2033.

O diretor de tecnologia da ASML, Marco Pieters, afirma que a expectativa é de ganhos expressivos com a adoção em escala: “Se conseguirmos viabilizar isso como indústria, veremos a produtividade desses sistemas crescer 40%”.

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